有以下股票:
1、晶方科技(603005); 2、睿能科技(603933); 3、大港股份(002077); 4、捷捷微电(300623); 6、台基股份(300046); 7、新莱应材(300260); 8、兴森科技(002436); 9、联得装备(300545); 10、南大光电(300346); 11、光力科技(300480); 12、晶瑞股份(300655); 13、民德电子(300656); 14、赛腾股份(603283); 15、北京君正(300223); 17、富满电子(300671); 18、扬杰科技(300373); 19、华微电子(600360); 20、上海新阳(300236)等。
半导体封测龙头股票有哪些1.长电科技(600584):半导体封测龙头股。到本报告期末，公司已获得专利3，504项，其间发明专利2，743项(美国获得专利1，758项)，掩盖中高端封装测验范畴。
2.方静科技(603005):半导体封装测验龙头股。建立于姑苏，是一家致力于开发立异新技能，为客户供给牢靠、小型化、高功能、高性价比的半导体封装量产服务商。
3.通富微电子(002156):半导体封装测验龙头股。公司具有MEMS传感器产品的封测才能，在这方面有必定的技能储备。其他半导体封测概念股包含:广利科技、格尔软件、太极实业、厉安德装备、华天科技、赛腾股份等。南边财富供给的数据仅供参考，不构成出资主张。据此，操作需自担危险。股市有危险，出资需谨慎。
上海新阳拟募资15亿元投向高端光刻胶等项目 部分核心技能已获打破上海新阳拟凭借资本商场攻关高端光刻胶研制。
8月15日，上海新阳(300236)发表定增预案，公司拟向特定目标发行股票征集资金不超越15亿元，其间7.32亿元用于集成电路制作用高端光刻胶研制、工业化项目，3.48亿元用于集成电路要害工艺资料项目，4.20亿元用于弥补公司流动资金。
预案显现，以ArF光刻胶、KrF厚膜光刻胶为代表的高端光刻胶以及工艺的首要技能和专利现在都把握在国外的企业与研讨部分，这些企业简直占有了国内外高端光刻胶商场悉数比例，这种局势严峻约束了我国集成电路工业的自主展开。
要攻坚高端光刻胶研制，上海新阳底气安在？据介绍，公司自建立以来，坚持自主立异，建立前10年经过自主研制把握了面向半导体封装范畴的第一代电子电镀与电子清洗技能，建立后10年经过自主研制把握了面向芯片制作范畴的第二代电子电镀与电子清洗技能，为我国芯片制作铜互连工艺填补了国产资料的空白。
“公司已将高端电子光刻技能作为公司展开的要点，研制成功后将成为公司的第三大核心技能，把握高端光刻胶的工业化技能是公司的战略展开需求。” 上海新阳在预案中表明。
力求于2023年前完结工业化
据发表，上海新阳此次定增目标为不超越35名特定目标，股票发行数量不超越8719.47万股，发行价格不低于定价基准日前20个交易日公司股票均价的80%。
详细来看本次募投项目，募资总额（15亿元）中的7.32亿元将用于集成电路制作用高端光刻胶研制、工业化项目（简称“光刻胶项目”），首要开发集成电路制作中ArF干法工艺运用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的 KrF厚膜光刻胶产品，力求于2023年前完结上述产品的工业化，打破国外独占，到达世界先进技能水平。
该项目出资总额估计9.33亿元，首要用于设备置办及保护、人员开销、测验化验加工费等。若项目按计划进展进行，估计KrF厚膜光刻胶2021年开端完结少数出售，2022年可完结量产，估计ArF（干式）光刻胶项目在2022年可完结少数出售，2023年开端量产，估计当年各项产品出售收入算计可达近2亿元。经公司测算，项目估计内部收益率（所得税后）为26.14%，出资回收期（所得税后）为7.47年，项目净现值为7.23亿元（假定必要收益率为12%）。
上海新阳表明， 估计光刻胶项目研制及工业化成功后，公司将把握包含光刻胶首要原料纯化工艺、产品配方、出产工艺和使用工艺技能在内的、具有完好知识产权的ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶的规模化出产技能，可完结两大类光刻胶产品及配套试剂的量产供货，并估计将获得20个以上发明专利。
谈及本次光刻胶项目的必要性，上海新阳论述，自2003年起，半导体工业进入了ArF（193nm）光刻年代，先进制作工艺运用量最高的半导体光刻胶也是ArF光刻胶。现在，国内90-14 nm半导体制程的高端半导体芯片制作所用的ArF光刻胶100%需求进口，其间超越90%为日本制作，ArF高端光刻胶产品在国内一直是空白。光刻胶产品有着很高的技能壁垒，到现在为止，欧美及日本等国家仍对我国制止输入ArF光刻胶技能。
据悉，鄙人游职业3D NAND的光刻技能展开中，KrF光刻技能占首要位置，所需的厚膜光刻胶商场需求量大，感光功能要求高，光刻胶图形侧壁要求垂直，抗刻蚀才能各项异性要求高，但现在该品种的光刻胶多为日韩、欧美等国家供给，代表现阶段及未来5年内处于干流位置的3D NAND制作用的厚膜光刻胶仍难觅国内光刻胶供货商踪迹，商场被日本、欧美等光刻胶企业操纵。
上海新阳指出，故我国想要把握ArF和KrF厚膜等高端光刻胶技能只要自给自足、自主立异，高端光刻胶国产化代替势在必行。
部分核心技能已获得打破
据介绍，若该项目成功施行，对我国半导体资料职业来说打破了国外独占，完结了又一要害资料的自主化。从职业上下游来说，完结了我国集成电路工业把握核心技能的重要一环，减小产生相似2019年下半年日本约束对韩国出口三项半导体要害资料的“卡脖子”事情的或许，提高了我国整个集成电路工业的安全性。
对公司而言，施行项目是占据技能和商场高地、进一步稳固职业位置、拓宽新成绩增长点的重要展开方向，具有严重战略意义。
从项目施行的可行性来看，上海新阳自2017年以来即开端准备研制光刻胶项目，现在已为光刻胶项目专门装备了由多名海外顶尖专家和国内优异研制人才组成的团队，并仍在继续引入高端人才。现已引入的专家均在全球闻名光刻胶厂商供职20年以上，具有开发 KrF 以及 ArF 干法等光刻胶及相关要害资料的丰厚经历，还具有光刻胶树脂及各种光引发剂的开发规划及使用经历，对光刻胶及原资料的研制系统也具有杰出的根底。
除外部引入专家人才外，公司也建立了内部的人才队伍，由公司总经理方书农博士亲身担任项目负责人等。据悉，公司前期已在光刻胶项目上投入很多资金，收购了包含光刻机在内的多套光刻胶研制和检测高端设备。
上海新阳泄漏， 经过长时间投入，现在部分核心技能已获得打破，ArF干法光刻胶和 KrF厚膜光刻胶均已构成实验室效果，样品要害参数目标已到达竞品水平，产品现已过数千次实验，得到令人满意的实验成果。现在实验室研制阶段已完结，正在进行中试及后续验证推动。
联合开发化学机械抛光液
本次募资的另一个投向是集成电路要害工艺资料项目，该项目将由公司全资子公司合肥新阳施行。经过施行本项目，公司将为芯片铜互联超高纯硫酸铜电镀液系列、芯片刻蚀超纯清洗液系列等产品算计新增年产能17000吨。
从项目经济效益来看，集成电路要害工艺资料项目总出资额估计3.5亿元，项目建造期两年，彻底达产后估计年均经营收入55050.20万元，利润总额为9970.02万元，项目内部收益率（所得税后）为14.70%，出资回收期（所得税后）为8.03年。
同日，上海新阳还宣告，公司已于8月13日同上海晖研签署战略协作协议， 两边拟就化学机械抛光液（CMP Slurry）的开发、出产、出售展开协作，战略协作期限暂定为5年。
据介绍，上海晖研具有化学机械抛光液产品研制团队，具有化学机械抛光液产品研制、出产工艺技能及质量管控、客户技能服务才能等专有技能。上海新阳具有化学机械抛光液产品出产根底条件与产品出售途径；两边达到产品研制、出产、出售与服务的协作关系。
上海商场的股票叫什么阳科技是上海新阳科技股票吗？
最近跌的很厉害啊，这只股票。
扩展资料：
上海新阳半导体资料股份有限公司的主经营务是集成电路制作及先进封装用要害工艺资料及配套设备、环保型、功能性涂料的研制、出产、出售和服务。公司的首要产品是半导体晶圆制作及先进封装用电镀液及添加剂、半导体晶圆制作用清洗剂、半导体封装用电子化学资料、半导体制作用高端光刻胶产品、半导体配套设备产品。公司是国家工信部第一批“专精特新”小伟人企业、上海市集成电路要害工艺资料要点实验室、上海市高新技能企业、上海市企业技能中心、上海市专利作业演示企业、上海市重合同守信用AAA级企业。
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